邦定前清洗剂
显示模组清洁/显影

BD-100

邦定前清洗剂

邦定前精密清洗

技术描述

邦定前清洗剂(BD-100)是圣普化学面向显示模组 / IC 邦定场景开发的清洁/显影产品——面向精密制程的清洗化学品。技术性能对标ZESTRON 系列 / W3200 类 COB 邦定前水基清洗剂(市售参考),提供国产化替代方案。

适用材质为显示模组/IC邦定,典型应用覆盖显示模组 / IC 邦定。

服务于显示面板/模组制程的清洗、蚀刻与返修工序。

产品简介

邦定前清洗剂(BD-100)是圣普化学面向显示模组 / IC 邦定开发的清洁/显影产品。产品核心优势:邦定前精密清洗。技术上对标ZESTRON 系列 / W3200 类 COB 邦定前水基清洗剂(市售参考),提供国产化替代选择。产品特点:无卤,无磷,无氮,无闪点,喷淋与超声工艺均适用,按"无残留"标准设计——低残留,无发白,易漂洗,避免残留物在邦定界面直接拉低良率,与 ACF 去胶液天然配套:邦定前清洗与返修去胶是同一客户的两个工序,可组合切入,一次送样覆盖两个应用点。适用材质:显示模组/IC邦定。典型工艺:适用于 IC / 显示邦定前的精密清洗:去除 COG/COF 邦定前玻璃 ITO 区域的指印,灰尘,玻璃粉与油污,也可用于 COB 裸芯片邦定前的助焊剂残留清洗(残留会直接影响邦线键合力),水基低泡,无残留设计。

产品参数速览

对标竞品
ZESTRON 系列 / W3200 类 COB 邦定前水基清洗剂(市售参考)
适用场景
显示模组 / IC 邦定
适用材质
显示模组/IC邦定

产品特点

无卤,无磷,无氮,无闪点,喷淋与超声工艺均适用,按"无残留"标准设计——低残留,无发白,易漂洗,避免残留物在邦定界面直接拉低良率,与 ACF 去胶液天然配套:邦定前清洗与返修去胶是同一客户的两个工序,可组合切入,一次送样覆盖两个应用点

工艺参数与使用说明

适用于 IC / 显示邦定前的精密清洗:去除 COG/COF 邦定前玻璃 ITO 区域的指印,灰尘,玻璃粉与油污,也可用于 COB 裸芯片邦定前的助焊剂残留清洗(残留会直接影响邦线键合力),水基低泡,无残留设计

需要样品或技术资料?

联系我们获取 BD-100 的详细参数、MSDS 与样品支持

联系销售

同线相关产品

蚀刻/剪薄