技术描述
晶澈光罩专用 · 中性清洗液（SP-Clear Mask）是圣普化学面向光罩/掩模盒场景开发的载具/晶圆产品——面向精密制程的清洗化学品。技术性能对标依托行业常见光罩/掩模盒防 Haze 清洗剂，提供国产化替代方案。核心卖点：光罩盒防 Haze，离子残留严格受控。
主要适用材质/对象：光罩/掩模盒。
服务于半导体制造与先进封装产线的良率与洁净度需求。
产品简介
晶澈光罩专用 · 中性清洗液（SP-Clear Mask）是圣普化学面向光罩/掩模盒开发的载具/晶圆产品。产品核心优势：光罩盒防 Haze，离子残留严格受控。技术上对标依托行业常见光罩/掩模盒防 Haze 清洗剂，提供国产化替代选择。产品特点：低离子残留。典型工艺：中性。
产品参数速览
对标竞品
依托行业常见光罩/掩模盒防 Haze 清洗剂
适用场景
光罩/掩模盒
适用材质
光罩/掩模盒
产品特点
低离子残留
工艺参数与使用说明
中性
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