Technical Description
RDL 显影液（RD-D1）是圣普化学面向先进封装 RDL场景开发的蚀刻/显影产品——用于精密图形化加工的蚀刻/显影化学品。技术性能对标TOK/帕卡，提供国产化替代方案。核心卖点：RDL 制程显影，封装级标准显影体系。
主要适用材质/对象：先进封装 RDL。
服务于半导体制造与先进封装产线的良率与洁净度需求。
Introduction
RDL 显影液 (RD-D1) is developed by SEMPURION for 先进封装 RDL as a 蚀刻/显影 product.Key advantage: RDL 制程显影，封装级标准显影体系. Benchmarked against TOK/帕卡 as a domestic alternative. Key features: 电子级纯度，无金属离子（MIF），Na⁺/K⁺/Fe³⁺ 各 <0.5ppm 管控（钠钾迁移进器件致漏电为红线项），非硅消泡剂适配喷淋显影. Typical process: 23±0.5°C 恒温使用，浸泡式 60-120s / 喷淋式 30-60s 低压喷淋，显影后立即 DI 水冲洗，原液及工作液按剧毒化学品管控（经皮吸收剧毒，须双人双锁台账管理，误触立即以清水冲洗 15 分钟并就医）.
Quick Specs
Features
电子级纯度，无金属离子（MIF），Na⁺/K⁺/Fe³⁺ 各 <0.5ppm 管控（钠钾迁移进器件致漏电为红线项），非硅消泡剂适配喷淋显影
Process & Usage
23±0.5°C 恒温使用，浸泡式 60-120s / 喷淋式 30-60s 低压喷淋，显影后立即 DI 水冲洗，原液及工作液按剧毒化学品管控（经皮吸收剧毒，须双人双锁台账管理，误触立即以清水冲洗 15 分钟并就医）
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