Semiconductor & PackagingCarrier / Wafer
SP-Clear Mask
晶澈光罩专用 · 中性清洗液
光罩盒防 Haze，离子残留严格受控
Technical Description
晶澈光罩专用 · 中性清洗液（SP-Clear Mask）是圣普化学面向光罩/掩模盒场景开发的载具/晶圆产品——面向精密制程的清洗化学品。技术性能对标依托行业常见光罩/掩模盒防 Haze 清洗剂，提供国产化替代方案。核心卖点：光罩盒防 Haze，离子残留严格受控。
主要适用材质/对象：光罩/掩模盒。
服务于半导体制造与先进封装产线的良率与洁净度需求。
Introduction
晶澈光罩专用 · 中性清洗液 (SP-Clear Mask) is developed by SEMPURION for 光罩/掩模盒 as a 载具/晶圆 product.Key advantage: 光罩盒防 Haze，离子残留严格受控. Benchmarked against 依托行业常见光罩/掩模盒防 Haze 清洗剂 as a domestic alternative. Key features: 低离子残留. Typical process: 中性.
Quick Specs
Benchmark
依托行业常见光罩/掩模盒防 Haze 清洗剂
Application
光罩/掩模盒
Materials
光罩/掩模盒
Features
低离子残留
Process & Usage
中性
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